ECHTZEIT-PLASMASTEUERUNG FÜR EUV-LDP-QUELLEN

ResonantChargingBis zu 15000 Mal pro Sekunde muss zwischen zwei Elektroden, durch resonantes Laden, eine definierte Spannung erzeugt und durch Triggerlaser wieder entladen werden. Wir haben ein solches System von Grund auf neu entwickelt und eine bisher nicht gekannte Wiederholgenauigkeit erreicht.

EUV-LDP-Quellen werden für Maskeninspektionswerkzeuge benötigt, die für die Herstellung von Halbleitern der neuesten Generation wie z.B. Speicher und Prozessoren benötigt werden.
 

Unsere Entwicklung hat die Plasmaerzeugung so stabilisiert, dass Energiedrifts gut ausgeregelt werden können.

#mask_semicon #EUV

 

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