EUV-LDP-QUELLE FÜR BELICHTUNGS- UND ANALYSEANLAGE

EBL2LayoutFrameUm eine EUV-LDP-Quelle zu betreiben, muss ein Zinnplasma in einer Hochvakuumumgebung unter Verwendung von Hochspannung erzeugt und gesteuert werden. Gemeinsam mit unserem Kunden haben wir die gesamte Umgebung einer solchen EUV-Quelle entwickelt, gebaut und programmiert.
 
EUV steht für Extrem Ultraviolettes Licht und LDP für Plasma Erzeugung durch Laser gesteuertes entladen. EUV wird benötigt, um die neueste Generation von Halbleiterbauelementen wie Speicher und Prozessoren herzustellen.
 

Mit der "Belichtungs- und Analyseanlage" können die Auswirkungen durch EUV auf eine Vielzahl von Materialien getestet werden.

 #EUVL #LASER #HIGH_Voltage #HIGH_VACUUM #SIEMENS_PLC #NI_CRIO

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